000 01804nam a2200385 4500
001 vtls000096194
003 RU-ToGU
005 20210921210343.0
008 010328s1977 ru a f b 001 0 rus d
035 _a0099-54760
040 _aRU-ToGU
_brus
_cRU-ToGU
_ePSBO
041 1 _arus
_heng
080 _a537.311.322:548.4
100 1 _aМилнс, А. Г.
_9187256
245 1 0 _aПримеси с глубокими уровнями в полупроводниках
_cА. Г. Милнс; Пер. с англ. Г. С. Пекаря; Под ред. М. К. Шейнкмана
246 1 1 _aDeep impurities in semiconductors
260 _aМ.
_bМир
_c1977
300 _a562 с.
_bил.
504 _aБиблиогр.: с. 448-546
504 _aПредм. указ.: с. 547-558
653 _aполупроводники
653 _aпримеси в полупроводниках
653 _aнеравновесные процессы
653 _aпроводимость примесных зон
653 _aпримесные зоны полупроводников
653 _aэнергетические уровни
653 _aпримесные зоны кремниевые
653 _aпримесные зоны германиевые
653 _aрекомбинация примесных зон
653 _aфотопроводимость примесных зон
653 _aпереходные процессы примесных зон
653 _aионизация ударная примесных зон
852 4 _aRU-ToGU
_h537
_iМ604
_nru
999 _c95799