000 03872nab a2200337 c 4500
001 vtls000788719
003 RU-ToGU
005 20230319221445.0
007 cr |
008 201124|2020 ru s c rus d
024 7 _a10.17223/00213411/63/10/17
_2doi
035 _ato000788719
040 _aRU-ToGU
_brus
_cRU-ToGU
100 1 _aКрасик, Яков Евсеевич
_9506279
245 1 0 _aИсследования плазменных катодов в лаборатории импульсной мощности и физики плазмы
_cЯ. Е. Красик
336 _aТекст
337 _aэлектронный
504 _aБиблиогр.: 111 назв.
506 _aОграниченный доступ
520 3 _aРассмотрены несколько типов плазменно-электронных источников, изучавшихся в лаборатории импульсной мощности и физики плазмы последние двадцать лет. Описаны и обсуждены основные параметры, такие, как температура и плотность плазмы, скорость расширения и однородность плазмы, время жизни и вакуумная совместимость пассивных плазменных катодов (взрывоэмиссионных, металлокерамических, бархатных, из углеродного волокна с покрытием CsI и без него, углеродных капилляров, мультикапиллярных и мультищелевых) и активных плазменных катодов (сегнетоэлектрических и с полыми анодами). Эти параметры были изучены и охарактеризованы при использовании различных методов время- и пространственно-разрешенной диагностики, электрической, оптической, спектроскопической, рассеяния Томсона, лазерно-индуцированной флюоресценции и рентгеновского излучения. Показано, что работа пассивных источников определяется образованием плазмы разряда, параметры которой зависят от амплитуды и времени нарастания ускоряющего электрического поля. В случае сегнетоэлектрических и полых анодных источников параметры плазмы контролируются импульсом возбуждения и током разряда соответственно. Также представлены параметры сильноточных электронных пучков, генерируемых в высоковольтных и сильноточных электронных диодах с этими плазменными катодами.
653 _aплазменно-электронные источники
653 _aплазма
653 _aэлектронные пучки
653 _aионные пучки
655 4 _aстатьи в журналах
_9879358
773 0 _tИзвестия высших учебных заведений. Физика
_d2020
_gТ. 63, № 10. С. 17-32
_x0021-3411
_w0026-80960
852 4 _aRU-ToGU
856 4 _uhttp://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000788719
908 _aстатья
999 _c473395