000			02761nab a2200313 c 4500
001			vtls000551932
003			RU-ToGU
005			20240405173252.0
007			cr |
008			170613|2015 ru s c rus d
035			_ato000551932
040			_aRU-ToGU _brus _cRU-ToGU
245	1	0	_aУсловия равномерного воздействия на анод плазмы импульсного диффузного разряда, формируемого за счет убегающих электронов _cМ. В. Ерофеев, Е. Х. Бакшт, А. Г. Бураченко, В. Ф. Тарасенко
504			_aБиблиогр.: 15 назв.
520	3		_aИсследована пространственная структура объемного (диффузного) разряда в сильно неоднородном электрическом поле при наносекундных длительностях импульсов напряжения и атмосферном давлении воздуха, а также воздействие плазмы данного разряда на поверхность плоского алюминиевого анода. Показано, что диффузный разряд при наносекундной длительности импульса напряжения генератора позволяет в воздухе атмосферного давления проводить однородную обработку поверхности анода в отличие от искрового разряда, приводящего к ухудшению рельефа поверхности за счет образования на ней микрократеров и зон с измененными свойствами.
653			_aдиффузные разряды
653			_aубегающие электроны
653			_aимпульсы напряжения
655		4	_aстатьи в журналах _9879358
700	1		_aЕрофеев, Михаил Владимирович _9194888
700	1		_aБураченко, Александр Геннадьевич _997827
700	1		_aТарасенко, Виктор Федотович _963750
700	1		_aБакшт, Евгений Хаимович _989978
773	0		_tЖурнал технической физики _d2015 _gТ. 85, вып. 9. С. 56-61 _x0044-4642 _w0028-41360
852	4		_aRU-ToGU
856	7		_uhttp://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000551932
908			_aстатья
999			_c408039