000 01549nam a2200265 4500
001 vtls000155783
003 RU-ToGU
005 20210921232219.0
008 970708s1983 __ 00| | rus d
035 _a0159-91060
035 _a(RU-RKP)ru83-77707
040 _aRU-RKP
_brus
_cRU-RKP
_dRU-ToGU
_ePSBO
041 1 _arus
_heng
080 _a669.05+66.011]:533.9
245 1 0 _aТехнологическое применение низкотемпературной плазмы
_c[Оулет Р. , Барбье М. , Черемисинофф П. и др. ]; Пер. с англ. под ред. Н. Н. Семашко
260 _aМ.
_bЭнергоатомиздат
_c1983
300 _a143 с.
_bил.
_c21 см
500 _aАвт. указаны в вып. дам; Перевод изд.: Low-temperature plasma technologУ applications / R. Ouellette, M. Barbier, P. Cheremisinoff. High-temperature plasma technologУ applications / L. Ettlinger, D. Nainan, R. Ouelette, P. Cheremisinoff (Ann Arbor, 1980)
650 7 _aПлазма [физ.] низкотемпературная - Применение в промышленности.
_2RU-rurkp
_9239733
700 1 _aОулет, Р.
_9239734
700 1 _aБарбье, М.
_9239735
700 1 _aЧеремисинофф, П.
_9239736
700 1 _aСемашко, Николай Николаевич.
_eредактор
_4edt
_9229798
999 _c157790