Normal view
MARC view
Экспериментальное исследование изменения параметров растущих двумерных пленок с толщиной при их эпитаксиальном выращивании А. П. Коханенко, В. В. Дирко, О. И. Кукенов, А. С. Соколов
Material type:
ArticleContent type: Текст Media type: электронный Subject(s): экспериментальные исследования | двумерные пленки | эпитаксиальное выращиваниеGenre/Form: статьи в сборниках Online resources: Click here to access online
In:
Фотоника 2021 : Российская конференция и школа молодых ученых по актуальным проблемам полупроводниковой фотоэлектроники (с участием иностранных ученых), 4-8 октября 2021 г., Новосибирск : тезисы докладов С. 99Abstract: Целью данной работы является определение кинетики изменения параметров растущих двумерных пленок с толщиной при их эпитаксиальном выращивании. Для этого в работе проводилось эпитаксиальное выращивание напряженных двумерных слоев германия и твердого раствора германия-кремния различного состава, а также рассматривались основные особенности формирования квантовых точек в этих системах.
No physical items for this record
Библиогр.: 3 назв.
Целью данной работы является определение кинетики изменения параметров растущих двумерных пленок с толщиной при их эпитаксиальном выращивании. Для этого в работе проводилось эпитаксиальное выращивание напряженных двумерных слоев германия и твердого раствора германия-кремния различного состава, а также рассматривались основные особенности формирования квантовых точек в этих системах.
There are no comments on this title.