Normal view
MARC view
Применение низкотемпературной плазмы для травления и очистки материалов Б. С. Данилин, В. Ю. Киреев
Material type:
TextPublication details: Москва Энергоатомиздат 1987Description: 262, [2] с. илSubject(s): травление материалов | очистка материалов | вакуумно-технические требования | физико-химические процессы | травление ионно-плазменное | травление ионно-лучевое | травление радикальное | травление плазменное | травление ионно-плазменное реактивное | травление ионно-лучевое реактивное | травление радиационно-стимулированное | скорость травления, измерение | травление вакуумно-плазменное | ионные пучки фокусированные | травление фотонно-стимулированное | автоматизированное производство гибкое | интегральные схемы, технология изготовления | плазма низкотемпературная | обработка материалов
| Item type | Current library | Call number | Status | Date due | Barcode |
|---|---|---|---|---|---|
| 1 месяц | Книгохранилище | 1-640886 (Browse shelf (Opens below)) | Available | 13820000960036 |
Библиогр.: с. 252-260
There are no comments on this title.