Normal view
MARC view
Литографические характеристики позитивного фоторезиста на основе нафтохинондиазида в зависимости от условий нанесения и обработки поверхности подложки Е. В. Анищенко, Н. С. Еремина, Г. М. Мокроусов
Material type:
ArticleSubject(s): труды ученых ТГУ | химическое материаловедение | литография | резистивные пленки
In:
Вопросы химии и химического материаловедения С. 33-37
No physical items for this record
Библиогр.: 6 назв.
There are no comments on this title.