TY - SER AU - Лозовой,Кирилл Александрович AU - Дирко,Владимир Владиславович AU - Винарский,Владимир Петрович AU - Коханенко,Андрей Павлович AU - Войцеховский,Александр Васильевич AU - Акименко,Наталья Юрьевна TI - Двумерные материалы на основе элементов группы IVA: последние достижения в эпитаксиальных методах синтеза KW - 2D-кристаллы KW - кремний KW - германий KW - олово KW - свинец KW - силицен KW - германен KW - станен KW - плюмбен KW - молекулярно-лучевая эпитаксия KW - статьи в журналах N1 - Библиогр.: 70 назв N2 - Двумерные материалы стали одной из центральных тем исследования ученых по всему миру после получения графена – моноатомного слоя углерода. В настоящее время двумерные кристаллы рассматриваются в качестве одних из самых перспективных материалов для наноэлектроники и фотоники следующего поколения. Исследование возможностей создания приборов на основе 2D-материалов позволяет глубже изучить физические свойства этих новых материалов и дает отправную точку для развития огромного числа практически важных областей. Последние несколько лет повышенное внимание исследователей привлекают графеноподобные материалы элементов группы IVA, такие как силицен (Si), германен (Ge), станен (Sn) и плюмбен (Pb). Экспериментальное получение и изучение уникальных свойств двумерных моноатомных слоев углерода, кремния, германия, олова и свинца на различных подложках создало предпосылки для разработки приборов нового поколения на их основе. Широкие возможности по управлению их экзотическими электронными, магнитными и оптическими свойствами за счет выбора подложки, состава и геометрии двумерного слоя, а также за счет управления величиной упругих напряжений сделали их центральной темой для изучения в сфере нанотехнологий и наук о материалах. В настоящей работе проводится обзор последних достижений в области выращивания силицена, германена, станена и плюмбена эпитаксиальными методами. Особое внимание уделяется технологическим режимам роста, обеспечивающим получение высококачественных бездефектных двумерных структур большой площади, необходимых для перспективных приборных применений UR - http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:000721220 ER -