TY  - SER
AU  - Войцеховский,Александр Васильевич
AU  - Несмелов,Сергей Николаевич
AU  - Дзядух,Станислав Михайлович
TI  - Моделирование вольт-фарадных характеристик МДП-структур на основе МЛЭ HgCdTe при неоднородном распределении состава и легирующей примеси
KW  - теллурид кадмия-ртути
KW  - молекулярно-лучевая эпитаксия
KW  - МДП-структуры
KW  - варизонные слои
KW  - концентрация примесей
KW  - легирующие примеси
KW  - вольт-фарадные характеристики
KW  - моделирование
KW  - статьи в журналах
N1  - Библиогр.: 18 назв
N2  - Проведено численное моделирование низкочастотных и высокочастотных вольт-фарадных характеристик (ВФХ) МДП-структур на основе n-Hg0,70Cd0,30Te с приповерхностным варизонным слоем с повышенным содержанием CdTe и неоднородным по толщине распределением концентрации донорной примеси в приповерхностном слое полупроводника. Показано, что неоднородное распределение концентрации электронов существенно влияет на вид ВФХ МДП-структуры на основе n-HgCdTe с приповерхностным варизонным слоем, что может искажать результаты определения спектра поверхностных состояний. Значение емкости в минимуме низкочастотной ВФХ определяется концентрацией электронов на границе области пространственного заряда с квазинейтральным объемом. Установлено, что при определении концентрационных профилей по наклону C-2 (V)-зависимости в режиме обеднения надо учитывать наличие приповерхностных варизонных слоев, которые влияют на граничные значения диапазона определения концентрации. Полученные результаты качественно согласуются с экспериментальными данными
UR  - http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000667696
ER  -