Scientific Library of Tomsk State University

   E-catalog        

Normal view MARC view

Модификация поверхности материалов ионами бора на основе разрядных систем вакуумной дуги и планарного магнетрона А. С. Бугаев, А. В. Визирь, В. И. Гушенец [и др.]

Contributor(s): Визирь, Алексей Вадимович | Гушенец, Василий Иванович | Николаев, Алексей Геннадьевич | Никоненко, Алиса Владимировна | Окс, Ефим Михайлович | Савкин, Константин Петрович | Фролова, Валерия Петровна | Шандриков, Максим Валентинович | Юшков, Георгий Юрьевич | Бугаев, Алексей СергеевичMaterial type: ArticleArticleContent type: Текст Media type: электронный Subject(s): ионы бора | плазма | вакуумные дуги | планарные магнетроны | изотопические эффектыGenre/Form: статьи в журналах Online resources: Click here to access online In: Известия высших учебных заведений. Физика Т. 63, № 10. С. 166-173Abstract: Рассмотрен принцип работы и приведены характеристики экспериментального оборудования, разработанного для генерации пучков и плазмы ионов бора: источника ионов бора на основе вакуумной дуги с сепарацией изотопов бора в магнитном поле и генератора плазмы для нанесения борсодержащих покрытий на основе планарного магнетрона. Общим для данного оборудования является использование катодов, выполненных из гекса-борида лантана. В случае планарного магнетрона также использовался катод из кристаллического бора, нагреваемый в разряде. Показано, что при имплантации кремния пучками ионов изотопов бора 10B+ и 11B+ с дозами 1014-1016 ион/см2 наблюдается изотопический эффект диодных свойств легированной поверхности. Представлены результаты исследований свойств полученных борсодержащих покрытий на модельных материалах: нержавеющей стали 12Х18Н10Т, монокристаллическом кремнии и реакторном сплаве Э110.
Tags from this library: No tags from this library for this title. Log in to add tags.
No physical items for this record

Библиогр.: 12 назв.

Ограниченный доступ

Рассмотрен принцип работы и приведены характеристики экспериментального оборудования, разработанного для генерации пучков и плазмы ионов бора: источника ионов бора на основе вакуумной дуги с сепарацией изотопов бора в магнитном поле и генератора плазмы для нанесения борсодержащих покрытий на основе планарного магнетрона. Общим для данного оборудования является использование катодов, выполненных из гекса-борида лантана. В случае планарного магнетрона также использовался катод из кристаллического бора, нагреваемый в разряде. Показано, что при имплантации кремния пучками ионов изотопов бора 10B+ и 11B+ с дозами 1014-1016 ион/см2 наблюдается изотопический эффект диодных свойств легированной поверхности. Представлены результаты исследований свойств полученных борсодержащих покрытий на модельных материалах: нержавеющей стали 12Х18Н10Т, монокристаллическом кремнии и реакторном сплаве Э110.

There are no comments on this title.

to post a comment.
Share