Оптическая регистрация поверхностной плазмы цилиндрических проводников в сильных магнитных полях Н. А. Лабецкая, В. И. Орешкин, С. А. Чайковский [и др.]
Material type: ArticleSubject(s): крупномасштабные неустойчивости | электрический взрыв проводников | сильные магнитные поля | сильноточные импульсные генераторыGenre/Form: статьи в журналах Online resources: Click here to access online In: Известия высших учебных заведений. Физика Т. 62, № 7. С. 124-129Abstract: Представлены результаты экспериментов по взрыву алюминиевых и титановых проводников, проводившихся на генераторе МИГ (амплитуда тока около 2 МА, фронт нарастания около 100 нс) в магнитных полях до 3 МГс. Проводники состояли из двух частей: стержня диаметром 3 мм и трубки с таким же внешним диаметром и толщиной стенки 250 мкм. Поверхностная плазма проводника регистрировались с помощью оптической камеры HSFC Pro. Показано, что неустойчивости на поверхности вещества с высокой проводимостью (алюминий) формируются позже, чем на поверхности вещества с низкой проводимостью (титан). На поверхности трубки неустойчивости появляются раньше, чем на поверхности стержня, и остаются в течение всего процесса более ярко выраженными для обоих материалов проводников. Определены инкременты нарастания крупномасштабных неустойчивостей и проанализирован механизм их формирования.Библиогр.: 26 назв.
Ограниченный доступ
Представлены результаты экспериментов по взрыву алюминиевых и титановых проводников, проводившихся на генераторе МИГ (амплитуда тока около 2 МА, фронт нарастания около 100 нс) в магнитных полях до 3 МГс. Проводники состояли из двух частей: стержня диаметром 3 мм и трубки с таким же внешним диаметром и толщиной стенки 250 мкм. Поверхностная плазма проводника регистрировались с помощью оптической камеры HSFC Pro. Показано, что неустойчивости на поверхности вещества с высокой проводимостью (алюминий) формируются позже, чем на поверхности вещества с низкой проводимостью (титан). На поверхности трубки неустойчивости появляются раньше, чем на поверхности стержня, и остаются в течение всего процесса более ярко выраженными для обоих материалов проводников. Определены инкременты нарастания крупномасштабных неустойчивостей и проанализирован механизм их формирования.
There are no comments on this title.