Scientific Library of Tomsk State University

   E-catalog        

Normal view MARC view

Адмиттанс МДП-структур на основе HgCdTe с двухслойным диэлектриком CdTe/Al2O3 С. М. Дзядух, А. В. Войцеховский, С. Н. Несмелов и др.

Contributor(s): Дзядух, Станислав Михайлович | Несмелов, Сергей Николаевич | Сидоров, Георгий Юрьевич | Варавин, Василий Семенович | Васильев, Владимир Васильевич физик | Дворецкий, Сергей Алексеевич | Михайлов, Николай Николаевич физик | Якушев, Максим Витальевич | Войцеховский, Александр ВасильевичMaterial type: ArticleArticleSubject(s): МДП-структуры | электрофизические исследования | адмиттанс | молекулярно-лучевая эпитаксия | двухслойные диэлектрикиGenre/Form: статьи в журналах Online resources: Click here to access online In: Известия высших учебных заведений. Физика Т. 60, № 11. С. 3-12Abstract: Экспериментально исследован адмиттанс МДП-структур на основе n ( p ) - Hg1-x Cd x Te (при x от 0.22 до 0.40) с диэлектриками SiO2/Si3N4, Al2O3 и CdTe/Al2O3 при температуре 77 К. Выращивание в процессе эпитаксии промежуточного слоя CdTe приводит при малом диапазоне изменения напряжения к практически полному исчезновению гистерезиса электрофизических характеристик МДП-структур на основе варизонного n -HgCdTe. При большом диапазоне изменения напряжения гистерезис вольт-фарадных характеристик для МДП-структур на основе n -HgCdTe с диэлектриком CdTe/Al2O3 появляется, но механизм гистерезиса отличается от такового для однослойного диэлектрика Al2O3. Для МДП-структур на основе p -HgCdTe введение дополнительного слоя CdTe не приводит к значительному уменьшению гистерезисных явлений, что может быть связано с деградацией свойств границы раздела при выходе ртути из пленки в результате низкотемпературного отжига, изменяющего тип проводимости полупроводника.
Tags from this library: No tags from this library for this title. Log in to add tags.
No physical items for this record

Библиогр.: 15 назв.

Доступ в сети ТГУ

Экспериментально исследован адмиттанс МДП-структур на основе n ( p ) - Hg1-x Cd x Te (при x от 0.22 до 0.40) с диэлектриками SiO2/Si3N4, Al2O3 и CdTe/Al2O3 при температуре 77 К. Выращивание в процессе эпитаксии промежуточного слоя CdTe приводит при малом диапазоне изменения напряжения к практически полному исчезновению гистерезиса электрофизических характеристик МДП-структур на основе варизонного n -HgCdTe. При большом диапазоне изменения напряжения гистерезис вольт-фарадных характеристик для МДП-структур на основе n -HgCdTe с диэлектриком CdTe/Al2O3 появляется, но механизм гистерезиса отличается от такового для однослойного диэлектрика Al2O3. Для МДП-структур на основе p -HgCdTe введение дополнительного слоя CdTe не приводит к значительному уменьшению гистерезисных явлений, что может быть связано с деградацией свойств границы раздела при выходе ртути из пленки в результате низкотемпературного отжига, изменяющего тип проводимости полупроводника.

There are no comments on this title.

to post a comment.
Share