Scientific Library of Tomsk State University

   E-catalog        

Normal view MARC view

Определение электрофизических свойств МДП на основе nB(SL)n-структуры из HgCdTe в широком температурном диапазоне А. В. Войцеховский, С. М. Дзядух, Д. И. Горн [и др.]

Contributor(s): Войцеховский, Александр Васильевич | Дзядух, Станислав Михайлович | Горн, Дмитрий Игоревич | Дворецкий, Сергей Алексеевич | Михайлов, Николай Николаевич физик | Сидоров, Георгий Юрьевич | Якушев, Максим ВитальевичMaterial type: ArticleArticleContent type: Текст Media type: электронный Other title: Determination of the electrical properties of MIS based on the nB(SL)n-structure of HgCdTe in a wide temperature range [Parallel title]Subject(s): сверхрешетки | гетероэпитаксиальные слои | nBn-структура | МДП-структура | адмитансGenre/Form: статьи в журналах Online resources: Click here to access online In: Прикладная физика № 5. С. 75-83Abstract: Проведено исследование адмитансных характеристик структуры металлдиэлектрик-полупроводник (МДП), в качестве полупроводника в которой использовалась nBn-структура на основе эпитаксиальных слоев Hg1-x Cd x Te, выращенных методом МЛЭ со сверхрешёткой в барьерной области. Построены зависимости концентрации основных носителей заряда и величины роизведения дифференциального сопротивления области пространственного заряда (ОПЗ) на площадь структуры от температуры. Определены параметры границы раздела Al2O3/Hg1-xCdxTe, такие как плотность и характерное время перезарядки поверхностных состояний. На температурной зависимости дифференциальной проводимости ОПЗ обнаружены две груп пы максимумов, на основании положения которых определены энергии активации носителей заряда, одна из которых соответствует ширине запрещенной зоны контактного слоя.
Tags from this library: No tags from this library for this title. Log in to add tags.
No physical items for this record

Библиогр.: 14 назв.

Проведено исследование адмитансных характеристик структуры металлдиэлектрик-полупроводник (МДП), в качестве полупроводника в которой использовалась nBn-структура на основе эпитаксиальных слоев Hg1-x Cd x Te, выращенных методом МЛЭ со сверхрешёткой в барьерной области. Построены зависимости концентрации основных носителей заряда и величины роизведения дифференциального сопротивления области пространственного заряда (ОПЗ) на площадь структуры от температуры. Определены параметры границы раздела Al2O3/Hg1-xCdxTe, такие как плотность и характерное время перезарядки поверхностных состояний. На температурной зависимости дифференциальной проводимости ОПЗ обнаружены две груп пы максимумов, на основании положения которых определены энергии активации носителей заряда, одна из которых соответствует ширине запрещенной зоны контактного слоя.

There are no comments on this title.

to post a comment.
Share