Normal view
MARC view
Gas sensitivity of IBSD deposited TiO2 thin films (Record no. 997770)
[ view plain ]
| 000 -Маркер записи | |
|---|---|
| Контрольное поле постоянной длины | 02783nab a2200457 c 4500 |
| 001 - Контрольный номер | |
| Контрольное поле | koha000997770 |
| 005 - Дата корректировки | |
| Контрольное поле | 20230320020550.0 |
| 007 - Кодируемые данные (физ. описан.) | |
| Контрольное поле постоянной длины | cr | |
| 008 - Кодируемые данные | |
| Контрольное поле постоянной длины | 230309|2022 sz s a eng d |
| 024 7# - Прочие стандартные номера | |
| Стандартный номер | 10.3390/coatings12101565 |
| Источник номера | doi |
| 035 ## - Системный контрольный номер | |
| Системный контрольный номер | koha000997770 |
| 040 ## - Источник каталогиз. | |
| Служба первич. каталог. | RU-ToGU |
| Код языка каталог. | rus |
| Служба, преобразующая запись | RU-ToGU |
| 245 10 - Заглавие | |
| Заглавие | Gas sensitivity of IBSD deposited TiO2 thin films |
| Ответственность | A. V. Almaev, N. N. Yakovlev, B. O. Kushnarev [et al.] |
| 336 ## - Тип содержимого | |
| Тип содержимого | Текст |
| 337 ## - Средство доступа | |
| Средство доступа | электронный |
| 504 ## - Библиография | |
| Библиография | Библиогр.: 75 назв. |
| 520 3# - Аннотация | |
| Аннотация | TiO2 films of 130 nm and 463 nm in thickness were deposited by ion beam sputter deposition (IBSD), followed by annealing at temperatures of 800 °C and 1000 °C. The effect of H2, CO, CO2, NO2, NO, CH4 and O2 on the electrically conductive properties of annealed TiO2 thin films in the operating temperature range of 200–750 °C were studied. The prospects of IBSD deposited TiO2 thin films in the development of high operating temperature and high stability O2 sensors were investigated. TiO2 films with a thickness of 130 nm and annealed at 800 °C demonstrated the highest response to O2, of 7.5 arb.un. when exposed to 40 vol. %. An increase in the annealing temperature of up to 1000 °C at the same film thickness made it possible to reduce the response and recovery by 2 times, due to changes in the microstructure of the film surface. The films demonstrated high sensitivity to H2 and nitrogen oxides at an operating temperature of 600 °C. The possibility of controlling the responses to different gases by varying the conditions of their annealing and thicknesses was shown. A feasible mechanism for the sensory effect in the IBSD TiO2 thin films was proposed and discussed. |
| 653 ## - Ключевые слова | |
| Ключевые слова | ионно-лучевое распыление |
| 653 ## - Ключевые слова | |
| Ключевые слова | оксид титана |
| 653 ## - Ключевые слова | |
| Ключевые слова | тонкие пленки |
| 653 ## - Ключевые слова | |
| Ключевые слова | осаждение |
| 655 #4 - Термин индексирования — жанр/форма | |
| Жанр/форма | статьи в журналах |
| 9 (RLIN) | 879358 |
| 700 1# - Другие авторы | |
| Другие авторы | Almaev, Aleksei V. |
| 9 (RLIN) | 407941 |
| 700 1# - Другие авторы | |
| Другие авторы | Yakovlev, Nikita N. |
| 9 (RLIN) | 802458 |
| 700 1# - Другие авторы | |
| Другие авторы | Kushnarev, Bogdan O. |
| 9 (RLIN) | 802463 |
| 700 1# - Другие авторы | |
| Другие авторы | Kopyev, Viktor V. |
| 9 (RLIN) | 114994 |
| 700 1# - Другие авторы | |
| Другие авторы | Novikov, Vadim A. |
| 9 (RLIN) | 96879 |
| 700 1# - Другие авторы | |
| Другие авторы | Zinoviev, Mikhail M. |
| 9 (RLIN) | 103962 |
| 700 1# - Другие авторы | |
| Другие авторы | Yudin, Nikolay N. |
| 9 (RLIN) | 488031 |
| 700 1# - Другие авторы | |
| Другие авторы | Podzyvalov, Sergey N. |
| 9 (RLIN) | 510295 |
| 700 1# - Другие авторы | |
| Другие авторы | Erzakova, Nadezhda N. |
| 9 (RLIN) | 101048 |
| 700 1# - Другие авторы | |
| Другие авторы | Chikiryaka, Andrei V. |
| 9 (RLIN) | 878330 |
| 700 1# - Другие авторы | |
| Другие авторы | Shcheglov, Mikhail P. |
| 9 (RLIN) | 878328 |
| 700 1# - Другие авторы | |
| Другие авторы | Baalbaki, Houssain A. |
| 9 (RLIN) | 799047 |
| 700 1# - Другие авторы | |
| Другие авторы | Olshukov, Alexey S. |
| 9 (RLIN) | 567838 |
| 773 0# - Источник информации | |
| Название источника | Coatings |
| Место и дата издания | 2022 |
| Прочая информация | Vol. 12, № 10. P. 1565 (1-17) |
| ISSN | 2079-6412 |
| 852 4# - Местонахождение единицы хранения | |
| Код организации-хранителя | RU-ToGU |
| 856 4# - Электронный адрес документа | |
| URL | <a href="http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:000997770">http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:000997770</a> |
| 908 ## - Параметр входа данных | |
| Параметр входа данных | статья |
| 999 ## - Системные контрольные номера (Koha) | |
| biblionumber (Koha) | 997770 |
No items available.