Scientific Library of Tomsk State University

   E-catalog        

Normal view MARC view

Formation of dislocations in the process of impurity diffusion in GaAs (Record no. 997193)

000 -Маркер записи
Контрольное поле постоянной длины 02220nab a2200349 c 4500
001 - Контрольный номер
Контрольное поле koha000997193
005 - Дата корректировки
Контрольное поле 20230320020504.0
007 - Кодируемые данные (физ. описан.)
Контрольное поле постоянной длины cr |
008 - Кодируемые данные
Контрольное поле постоянной длины 230221|2022 ru s a eng d
024 7# - Прочие стандартные номера
Стандартный номер 10.1007/s11182-022-02596-3
Источник номера doi
035 ## - Системный контрольный номер
Системный контрольный номер koha000997193
040 ## - Источник каталогиз.
Служба первич. каталог. RU-ToGU
Код языка каталог. rus
Служба, преобразующая запись RU-ToGU
245 10 - Заглавие
Заглавие Formation of dislocations in the process of impurity diffusion in GaAs
Ответственность S. S. Khludkov, I. A. Prudaev, O. P. Tolbanov, I. V. Ivonin
336 ## - Тип содержимого
Тип содержимого Текст
337 ## - Средство доступа
Средство доступа электронный
504 ## - Библиография
Библиография Библиогр.: 19 назв.
520 3# - Аннотация
Аннотация A study of the formation of dislocations in the process of impurity diffusion in GaAs has been carried out. The formation of dislocations in GaAs diffusion layers doped with various impurities (elements of II, IV, and VI groups and transition elements) is studied, depending on the conditions of diffusion. It is shown that during the diffusion of impurities in GaAs, in the diffusion layers, dislocations are formed, the density of which in the layers doped to the limiting surface concentrations can reach 108 cm–2. As the surface concentration of the diffusing impurity decreases, the dislocation density decreases. The diffusion conditions are determined, under which no additional dislocations are formed. Based on a comparison of the obtained experimental data and the results of the performed calculation, it was concluded that the formation of dislocations during the diffusion of impurities in GaAs is due to the gradient of the impurity concentration.
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова арсенид галлия
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова диффузия
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова механические напряжения
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова дислокационное образование
655 #4 - Термин индексирования — жанр/форма
Жанр/форма статьи в журналах
9 (RLIN) 879358
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Khludkov, Stanislav S.
9 (RLIN) 439488
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Prudaev, Ilya A.
9 (RLIN) 99979
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Tolbanov, Oleg P.
9 (RLIN) 95834
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Ivonin, Ivan V.
9 (RLIN) 208660
773 0# - Источник информации
Название источника Russian physics journal
Место и дата издания 2022
Прочая информация Vol. 64, № 12. P. 2350-2356
ISSN 1064-8887
852 4# - Местонахождение единицы хранения
Код организации-хранителя RU-ToGU
856 4# - Электронный адрес документа
URL <a href="http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:000997193">http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/koha:000997193</a>
908 ## - Параметр входа данных
Параметр входа данных статья
999 ## - Системные контрольные номера (Koha)
biblionumber (Koha) 997193

No items available.