Scientific Library of Tomsk State University

   E-catalog        

Normal view MARC view

Geometric and electronic structure of the Cs-doped Bi2Se3(0001) surface (Record no. 445702)

000 -Маркер записи
Контрольное поле постоянной длины 02920nab a2200469 c 4500
001 - Контрольный номер
Контрольное поле vtls000646780
005 - Дата корректировки
Контрольное поле 20231201165548.0
007 - Кодируемые данные (физ. описан.)
Контрольное поле постоянной длины cr |
008 - Кодируемые данные
Контрольное поле постоянной длины 190110|2017 xxu s a eng d
024 7# - Прочие стандартные номера
Стандартный номер 10.1103/PhysRevB.95.205429
Источник номера doi
035 ## - Системный контрольный номер
Системный контрольный номер to000646780
040 ## - Источник каталогиз.
Служба первич. каталог. RU-ToGU
Код языка каталог. rus
Служба, преобразующая запись RU-ToGU
245 10 - Заглавие
Заглавие Geometric and electronic structure of the Cs-doped Bi2Se3(0001) surface
Ответственность M. M. Otrokov, A. Ernst, K. Mohseni [et al.]
504 ## - Библиография
Библиография Библиогр.: 62 назв.
520 3# - Аннотация
Аннотация Using surface x-ray diffraction and scanning tunneling microscopy in combination with first-principles calculations, we have studied the geometric and electronic structure of Cs-deposited Bi2Se3(0001) surface kept at room temperature. Two samples were investigated: a single Bi2Se3 crystal, whose surface was Ar sputtered and then annealed at ∼500∘C for several minutes prior to Cs deposition, and a 13-nm-thick epitaxial Bi2Se3 film that was not subject to sputtering and was annealed only at ∼350∘C. In the first case, a considerable fraction of Cs atoms occupy top layer Se atoms sites both on the terraces and along the upper step edges where they form one-dimensional-like structures parallel to the step. In the second case, Cs atoms occupy the fcc hollow site positions. First-principles calculations reveal that Cs atoms prefer to occupy Se positions on the Bi2Se3(0001) surface only if vacancies are present, which might be created during the crystal growth or during the surface preparation process. Otherwise, Cs atoms prefer to be located in fcc hollow sites in agreement with the experimental finding for the MBE-grown sample.
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова селенид висмута
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова электронная структура
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова эпитаксиальные пленки
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова ГЦК-структуры
655 #4 - Термин индексирования — жанр/форма
Жанр/форма статьи в журналах
9 (RLIN) 879358
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Ernst, Arthur
9 (RLIN) 148312
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Mohseni, Katayoon
9 (RLIN) 148311
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Fulara, H.
9 (RLIN) 489621
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Roy, S.
9 (RLIN) 319074
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Castro, G. R.
9 (RLIN) 489622
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Rubio-Zuazo, J.
9 (RLIN) 489623
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Ryabishchenkova, Anastasiya G.
9 (RLIN) 101563
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Kokh, Konstantin A.
9 (RLIN) 89168
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Tereshchenko, Oleg E.
9 (RLIN) 96601
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Otrokov, Mikhail M.
9 (RLIN) 99558
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Aliev, Ziya S.
9 (RLIN) 157495
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Babanly, Mahammad B.
9 (RLIN) 157496
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Chulkov, Evgueni V.
9 (RLIN) 89119
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Meyerheim, Holger L.
9 (RLIN) 148314
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Parkin, S. S. P.
9 (RLIN) 489624
773 0# - Источник информации
Название источника Physical Review B
Место и дата издания 2017
Прочая информация Vol. 95, № 20. P. 205429-1-205429-9
ISSN 1098-0121
852 4# - Местонахождение единицы хранения
Код организации-хранителя RU-ToGU
856 7# - Электронный адрес документа
URL <a href="http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000646780">http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000646780</a>
908 ## - Параметр входа данных
Параметр входа данных статья
999 ## - Системные контрольные номера (Koha)
biblionumber (Koha) 445702

No items available.