Scientific Library of Tomsk State University

   Digital catalogue        

Comparison of the growth processes of germanium quantum dots on the Si (100) and Si(111) surfaces (Record no. 440488)

000 -Маркер записи
Контрольное поле постоянной длины 01939nab a2200349 c 4500
001 - Контрольный номер
Контрольное поле vtls000635229
005 - Дата корректировки
Контрольное поле 20210922095304.0
007 - Кодируемые данные (физ. описан.)
Контрольное поле постоянной длины cr |
008 - Кодируемые данные
Контрольное поле постоянной длины 181026|2018 ru s a eng dd
024 7# - Прочие стандартные номера
Стандартный номер 10.1007/s11182-018-1296-7
Источник номера doi
035 ## - Системный контрольный номер
Системный контрольный номер to000635229
040 ## - Источник каталогиз.
Служба первич. каталог. RU-ToGU
Код языка каталог. rus
Служба, преобразующая запись RU-ToGU
100 1# - Автор
Автор Kokhanenko, Andrey P.
9 (RLIN) 91707
245 10 - Заглавие
Заглавие Comparison of the growth processes of germanium quantum dots on the Si (100) and Si(111) surfaces
Ответственность A. P. Kokhanenko, K. A. Lozovoy, A. V. Voitsekhovskii
504 ## - Библиография
Библиография Библиогр.: 38 назв.
520 3# - Аннотация
Аннотация A comparative analysis is carried out of the growth peculiarities under molecular-beam epitaxy of germanium quantum dots on the silicon surfaces with different crystallographic orientations Si(100) and Si(111), including the case of the presence of tin surfactant on the surface. The free energy change, activation barrier of nucleation, critical thickness of the transition from two-dimensional growth to three-dimensional one, as well as the surface density and size distribution function of quantum dots in these systems are calculated.
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова квантовые точки
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова молекулярно-лучевая эпитаксия
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова Странского-Крастанова переход
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова кремний
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова олово
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова критическая толщина
655 #4 - Термин индексирования — жанр/форма
Жанр/форма статьи в журналах
9 (RLIN) 745982
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Lozovoy, Kirill A.
9 (RLIN) 91708
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Voytsekhovskiy, Alexander V.
9 (RLIN) 91706
773 0# - Источник информации
Название источника Russian physics journal
Место и дата издания 2018
Прочая информация Vol. 60, № 11. P. 1871-1879
ISSN 1064-8887
852 4# - Местонахождение единицы хранения
Код организации-хранителя RU-ToGU
856 7# - Электронный адрес документа
URL <a href="http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000635229">http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000635229</a>
908 ## - Параметр входа данных
Параметр входа данных статья
999 ## - Системные контрольные номера (Koha)
biblionumber (Koha) 440488

No items available.