Scientific Library of Tomsk State University

   E-catalog        

Normal view MARC view

Исследование поверхностного потенциала в области V-дефекта эпитаксиальной пленки МЛЭ КРТ (Record no. 139721)

000 -Маркер записи
Контрольное поле постоянной длины 02827nab a2200313 c 4500
001 - Контрольный номер
Контрольное поле vtls000553171
005 - Дата корректировки
Контрольное поле 20231117124255.0
007 - Кодируемые данные (физ. описан.)
Контрольное поле постоянной длины cr |
008 - Кодируемые данные
Контрольное поле постоянной длины 170613|2015 ru s c rus d
035 ## - Системный контрольный номер
Системный контрольный номер to000553171
040 ## - Источник каталогиз.
Служба первич. каталог. RU-ToGU
Код языка каталог. rus
Служба, преобразующая запись RU-ToGU
100 1# - Автор
Автор Новиков, Вадим Александрович
9 (RLIN) 83069
245 10 - Заглавие
Заглавие Исследование поверхностного потенциала в области V-дефекта эпитаксиальной пленки МЛЭ КРТ
Ответственность В. А. Новиков, Д. В. Григорьев
504 ## - Библиография
Библиография Библиогр.: 15 назв.
520 3# - Аннотация
Аннотация Методами атомно-силовой микроскопии проведено исследование распределения контактной разности потенциалов (поверхностного потенциала) эпитаксиальных пленок CdxHg1-xTe, выращенных методом молекулярно-лучевой эпитаксии. Изменение состава твердого раствора в области V-дефекта приводит к изменению величины контактной разности потенциалов. Показано, что в области V-дефекта состав твердого раствора изменяется на ~ 0.05 (2.5 ат.%) в сторону увеличения содержания ртути, а по периферии V-дефекта наблюдается область обеднения ртутью на 0.36 ат.%. Из анализа распределения поверхностного потенциала показано, что эпитаксиальная пленка КРТ, кроме макроскопических V-дефектов, содержит несформировавшиеся V-дефекты диаметром менее 1 мкм.
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова поверхностный потенциал
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова теллурид кадмия-ртути
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова молекулярно-лучевая эпитаксия
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова v-дефекты
653 ## - Ключевые слова
Ключевые слова эпитаксиальные пленки
655 #4 - Термин индексирования — жанр/форма
Жанр/форма статьи в журналах
9 (RLIN) 879358
700 1# - Другие авторы
Другие авторы Григорьев, Денис Валерьевич
9 (RLIN) 75964
773 0# - Источник информации
Название источника Физика и техника полупроводников
Место и дата издания 2015
Прочая информация Т. 49, вып. 3. С. 319-322
ISSN 0015-3222
Контрольный № источника 0028-44860
852 4# - Местонахождение единицы хранения
Код организации-хранителя RU-ToGU
856 7# - Электронный адрес документа
URL <a href="http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000553171">http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000553171</a>
908 ## - Параметр входа данных
Параметр входа данных статья
999 ## - Системные контрольные номера (Koha)
biblionumber (Koha) 139721

No items available.